Китай уперше підійшов впритул до технології, яку Захід роками намагався залишити поза його досяжністю. У надсекретній лабораторії в Шеньчжені завершено створення прототипу EUV-літографічної установки – ключової машини для виробництва найсучасніших чипів.
Проєкт, що розроблявся в режимі повної секретності, став кульмінацією шестирічної державної програми технологічної самодостатності. Усередині китайських урядових структур його неофіційно порівнюють із «Манхеттенським проєктом» – настільки високими є ставки.
На початку 2025 року команда інженерів і науковців завершила робочий прототип. Установка займає майже весь виробничий цех і нині проходить випробування. Повноцінні чипи вона ще не виготовляє. Але головне вже працює.
Машина здатна генерувати екстремальне ультрафіолетове випромінювання. Саме воно є серцем EUV-літографії.
Без цієї технології неможливе виробництво передових напівпровідників для штучного інтелекту, смартфонів і сучасних систем озброєння. EUV дозволяє формувати транзистори, товщина яких у тисячі разів менша за людську волосину. Це межа можливого для сучасної електроніки.
До сьогодні єдиною компанією, яка змогла довести EUV до комерційного рівня, залишалася нідерландська ASML. На це пішло майже 20 років розробок і мільярди євро інвестицій.
Китай обрав інший шлях. Коротший. І значно ризикованіший.
За інформацією джерел, ключову роль у шеньчженьському проєкті відіграли колишні інженери ASML. Саме вони займалися зворотним інжинірингом західних систем EUV. Частина фахівців працює під вигаданими іменами та з фальшивими документами. Сам проєкт офіційно має статус об’єкта національної безпеки.
Рекрутинг таких спеціалістів став частиною агресивної державної стратегії, запущеної у 2019 році. Китай робив ставку на людей із критичними знаннями й мінімальними юридичними обмеженнями.
- бонуси у 3–5 млн юанів;
- житлові субсидії та пільги;
- орієнтація на пенсіонованих або напівпенсіонованих інженерів;
- негласні винятки щодо подвійного громадянства.
Проєкт інтегрований у ширшу напівпровідникову стратегію Пекіна. Її курує Центральна комісія з науки й технологій КПК під керівництвом Дін Сюесяна – одного з найближчих соратників Сі Цзіньпіна.
Важливу роль у практичній реалізації відіграє Huawei. Компанія координує ланцюг постачання – від дизайну чипів і обладнання до інтеграції в кінцеві продукти, зокрема смартфони. За словами співрозмовників, залучені співробітники Huawei фактично живуть на території фабрик і лабораторій, працюючи з мінімальним контактом між командами та обмеженим доступом до зв’язку.
Прорив є. Але розрив із Заходом нікуди не зник.
Найвразливішим місцем залишається надточна оптика. Для ASML ці системи постачає німецька Carl Zeiss. Дзеркала, які працюють із плазмою температурою близько 200 000 °C і виготовляються місяцями, досі є головним викликом для китайського прототипу.
Водночас інститути Китайської академії наук досягли прогресу в інтеграції EUV-світла в оптичну систему. Саме це дозволило запустити установку в тестовому режимі.
Паралельно Китай активно обходить експортні обмеження. Компоненти зі старих ASML-машин, а також обладнання Nikon і Canon, що підпадає під санкції, закуповують через вторинні ринки, посередників і аукціони. Продажі старих літографічних систем у Китаї фіксувалися навіть восени 2025 року.
Офіційна мета Пекіна – отримати працездатні чипи з власної EUV-машини до 2028 року. Водночас джерела, близькі до проєкту, називають реалістичнішим горизонт 2030 року.
Навіть цей термін змінює картину. Аналітики ще нещодавно говорили про щонайменше десятирічний технологічний відрив Китаю від Заходу.
Для США та їхніх союзників китайський EUV-прототип став тривожним сигналом. Санкції, експортні обмеження й дипломатичний тиск не зупинили процес. Вони лише зробили його повільнішим і набагато таємнішим.
У глобальному суперництві за домінування в ШІ та військових технологіях це може виявитися одним із найважливіших стратегічних зрушень десятиліття.
Залишити коментар